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京东方A获得发明专利授权 “一种掩模板及其制备方法和曝光系统”

2024-06-05 【字体：大中小】

证券之星消息，根据企查查数据显示京东方Ａ（000725）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种掩模板及其制备方法和曝光系统”，专利申请号为CN201510591876.2，授权日为2024年1月23日。

专利摘要：本发明提供一种掩模板及其制备方法和曝光系统。该掩模板包括第一区和第二区，第一区和第二区内均设置有多个图形化掩模，且第一区内多个图形化掩模的分布密度小于第二区内多个图形化掩模的分布密度；每个图形化掩模包括第一图形、第二图形和两图形之间的狭缝，第一区内的狭缝宽度大于第二区内的狭缝宽度。该掩模板能使透过第二区内狭缝的曝光光线的强度相对于透过第一区内狭缝的曝光光线的强度减小，从而使显示区和非显示区内的晶体管在经过源漏极曝光和显影后，保留在有源区膜层上的光刻胶的厚度趋于一致，进而确保通过刻蚀工艺后非显示区晶体管的有源区不会断开，最终确保非显示区的晶体管能够正常工作。

今年以来京东方Ａ新获得专利授权141个，较去年同期减少了4.73%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了52.67亿元，同比减1.77%。

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